激光直寫光刻機(jī)是一種用于物理學(xué)、信息科學(xué)與系統(tǒng)科學(xué)、材料科學(xué)、機(jī)械工程領(lǐng)域的儀器，該設(shè)備是基于空間光調(diào)制器的直寫光刻設(shè)備，用于制作光刻掩膜。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

我們的多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設(shè)計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室。

應(yīng)用領(lǐng)域

小型立式無掩膜光刻系統(tǒng)是公司專為實驗室設(shè)計開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

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