離子束濺射的優(yōu)點(diǎn)：

1.離子束濺膜是一種動(dòng)量交換，它使固體物質(zhì)內(nèi)的原子.分子進(jìn)入氣相，濺射平均能量為10eV。經(jīng)過真空蒸發(fā)處理后，顆粒體積增加了100倍左右，在沉積到基體表面之后，仍然有足夠的動(dòng)能向基體表面遷移，使膜與基體結(jié)合牢固。

2.任何材料都可以濺射涂層，材料的濺射性差異小于其蒸發(fā)特性，甚至高熔點(diǎn)材料都可以濺射，對于合金、靶材化合物的材料容易形成與靶材組分比例相同的薄膜，所以離子束濺膜的應(yīng)用非常廣泛。

3.一般來說，濺射膜中的入射離子是通過氣體放電得到，在10-2Pa~10Pa之間，濺射離子往往與真空腔室內(nèi)的氣體分子發(fā)生碰撞，造成濺射離子的隨機(jī)偏離。一般說來，濺射是在較大的靶面區(qū)域內(nèi)射出，所以比真空鍍更能得到厚度均勻的薄膜層，對于有勾槽.臺(tái)階等的鍍件，可用陰極效應(yīng)來降低膜厚的差值。但是，高壓力時(shí)，濺射會(huì)使膜中含氣分子增多。

4.離子束可以精確聚焦和掃描，可以改變靶與基質(zhì)材料，并且可以獨(dú)立地控制離子束的能量和電流，而不影響離子束特性。等離子束濺射法可以精確控制，束流的大小與流場方向有關(guān)，濺射出的原子能直接沉積薄膜，因此，離子束濺射法可以作為一種研究薄膜的方法。

離子束濺射缺陷。

 離子束濺射法的主要缺點(diǎn)是靶區(qū)過小，沉積速率一般較低。此外，濺射法不適用于制備厚度均勻的大面積薄膜。飛濺裝置復(fù)雜，設(shè)備運(yùn)行費(fèi)用高。